“哎，真是爸爸的好大儿。”李凡笑笑，从双肩包里拿出笔记本，开机之后点开了一个文件递给朱教授。
朱教授：“这是？”
“这是我做的国产芯片自主方案，”李凡说：“其中最关键一点是这套方案将完全取代现有光刻机制造芯片这一固定模式。”
众所周知z国人的之所以难以造出高精尖芯片。
就是米国人在光刻机上的限制。
说到这里不得不讲解下光刻机的工作原理。
光刻机又名掩模对准曝光机，它的技术类似照片冲印。借用稳定性强光源将掩膜版上的电路图经过透光镜面投放至底片也就是涂满光刻胶的硅片，通过精密不差分毫的蚀刻去掉光刻胶，露出硅面，直到芯片制作完成。
其中光源和中心镜头是光刻机的核心技术，由于技术专业的限制z国人目前还无法接触到高端芯片的数据。
如果说芯片制造真的能绕开光刻机，那z国的未来将不可想象，朱教授激动架在鼻梁上的老花镜都激动的往下滑了一厘米。
“教授您是这方面的专家，我相信摩尔定律您一定知道，集成电路芯片上所集成的电路的数目，每隔18个月就会翻一番1。”
“因此无论哪国，都会尽可能缩短晶体管栅极的宽度，也就是栅长。毕竟栅长越短，那么相同尺寸上的硅片能集成晶体管数量也就越多。加上硅的独特属性，它存在着物理极限，一旦突破它的物理极限，晶体管中的电子就很容易产生隧穿效应，为芯片的制造带来巨大的危险。”
“虽然目前米国的英尔特，还有bi等企业和机构一直在试图解决晶体管漏电问题，避免隧穿效应的产生。”
“他们通过融合了高介电薄膜和金属门集亦或者重新调整布局采用鳍式场效电晶体技术，借由增加绝缘层的表面积来增加电容值，效果都不理想，毕竟材料的物理极限放在那里。硅材料的芯片的末日是可以肉眼预见的，就在不远的2030年。”1
朱教授认真地听着面前马尾少年讲述，他口中的每一个点都深深戳进他的心窝。
就是因为知道硅芯片是有末日，所以他才迟迟没有将项目展开，因为方案一旦选错，那对国家造成的损失将无法估量。
更会让国家在今后的科技竞争中彻底陷入末位。
目前米国那边已经将原有芯片研究一分为二。
一方面可是继续探索硅材料的物理极限，试图突破1n，找寻稳定布局，但这么做无疑是饮鸩止渴，摩尔定律已经给了预测。
一方面投入大量资金进行新型芯片材料的选取。
但无论哪一项的努力，高傲的米国人都没有放弃光刻机的使用，毕竟无论什么材质做出的芯片，那都将是纳米级别甚至更细微的尺度，目前除了光能蚀刻做到外，他们无法想象还有什么工具能够完成这么精密的操作。
朱教授激动的看完整份报告。
那一刻他眼神中充满了难以掩饰的兴奋和自豪，被米国限制打压了这么多年，他早就憋屈透了。
什么是未来？
这就是未来！
真真在在独立自主的未来！
作者有话要说：1来源百度百科
希望大家多多支持~